日本Nikkan Kogyo Shimbun（日刊工业新闻）报道说，Rapidus 将在两个尖端半导体生产基地安装总共十台 \"极紫外（EUV）曝光工具\"。这意味着日本政府推动半导体产业的力度再度加强，目标是让 Rapidus 赶超台积电等公司。 其 2 nm 级工艺节点将于 2027 年在目前正在建设中的 \"创新集成制造一号\"（IIM-1）工厂投入运行。 去年 12 月日本迎来了第一台 A...